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超平坦Si片

通过精益的减薄、抛光技术,制备出TTV<0.5μm的Si衬底,助力高精度加工工艺和先进制程,减少光学畸变和能量损失。因其极高的厚度均匀性,在半导体、光伏、光学和MEMS等领域具有不可替代的作用。

超平坦Si片

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